濺鍍原理. 柏騰採用連續式真空濺鍍(In-Line sputter)，在穩定的真空環境下通入高壓負電使惰性氣體產生解離形成電漿，再經由靶面磁場的作用，被離子化的惰性氣體正離子 ... ... <看更多>
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濺鍍原理. 柏騰採用連續式真空濺鍍(In-Line sputter)，在穩定的真空環境下通入高壓負電使惰性氣體產生解離形成電漿，再經由靶面磁場的作用，被離子化的惰性氣體正離子 ... ... <看更多>
(一)驅動電漿中氬離子(Ar+)對基板作轟擊效應，可達到再濺射作用. (re-sputtering)而排除薄膜沈積過程中之 ... | [DOC] 6 磁控濺鍍原理------------------- ... ... <看更多>
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濺鍍溅射Sputtering Vacuum Coating スパッタリング스퍼터링Sputtern. ... MRAM運作的原理是利用電子自旋時所產生的微小磁矩，就像在晶片上形成千萬個小磁鐵，藉由這些 ... ... <看更多>