關於 ald半導體應用 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 三大ALD 工艺挑战以及如何解决这些挑战| Swagelok

ALD半导体 工艺面临几项固有的挑战。 ... 处理ALD半导体工艺中不稳定的化学品 ... 之间的进行选择时完全取决于您的应用，—阀组通常更适合于必须吹扫更大批量的应用。

#12. 利用AI最佳化原子層沉積製程- 電子技術設計 - EDN Taiwan

企業通常使用ALD來製造半導體元件，但ALD也已經應用於太陽能電池、鋰電池和其他能源相關領域。 如今，製造商越來越依賴ALD來製造新型薄膜，但弄清楚 ...

#13. 360°科技－ALD - 電子時報

隨著半導體製程技術持續微縮，晶片的尺寸及線寬的縮小、功能的提升成為半導體製造業者技術的關鍵， ... 目前ALD市場主要供應商包括應用材料(Applied ...

#14. 矽碁科技股份有限公司

ALD 為製造半導體元件的重要製程，並且是可用於合成納米材料主要工具的一部分。 ... 因此，ALD被應用於微電子，納米技術和生物技術領域中，這些領域經常在有機和生物 ...

#15. 原子層沉積- 維基百科，自由的百科全書

原子層沉積（英文：Atomic layer deposition）是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積（化學氣相沉積）有相似之處 ...

#16. 材料科學與工程研究所 - 國立交通大學機構典藏

原子層化學氣相沉積(atomic layer deposition, ALD)兩部分，並以高溫退火處 ... 氧空缺(Oxygen vacancies)，成為n型半導體，可應用於發光元件上。ZnO在.

#17. ALD 工作原理

原子层沉积，ALD 是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积ALD 也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状 ...

#18. 關鍵詞(Keywords) - 工業技術研究院

在近. 幾年隨著科技的發展，元件已邁向數十奈米尺. 度，因此可沈積高品質薄膜且可精準調控厚度的. ALD 格外受到矚目，並應用在半導體、有機光電、. 能源工程等領域，皆有 ...

#19. 台灣最大CVD/ALD材料製造商 - Nanmat

南美特提供半導體客戶優質之化學氣相沉積材料（CVD/ALD Precursors)，包含最先進 ... 應用. 產品名稱. Dielectrics PMD / IMD. • TEOS / TEPO / TMPO / TEB / TMB.

#20. SRII重磅推出两款ALD新品，满足泛半导体应用多功能性和灵活 ...

原子层沉积（ALD）工艺被认为是逻辑和存储半导体器件微缩化的重要推动力。过去20年，ALD工艺及设备已经广泛应用于逻辑和存储器件的大批量制造，不断 ...

#21. 高效率旋轉式ALD製程應用於奈米半導體氧化物薄膜( I )

高效率旋轉式ALD製程應用於奈米半導體氧化物薄膜( I ). 李, 文熙 (PI). Master Degree Program on Nano-Integrated-Circuit Engineering · Department of Electrical ...

#22. 适合您ALD 应用的真空解决方案! - Pfeiffer Vacuum

3D 解析半导体工厂. 请您体验我们的半导体生产设备解决方案— 360°全方位3D 效果! 了解 ...

#23. 《科技》國研院發表12吋叢集式ALD - 奇摩股市

儀科中心亦發揮帶領國內ALD先進研究群聚效應，至2020年已客製開發20多台各式ALD設備，其應用領域涵蓋太陽能光電、半導體、觸媒和光學薄膜等領域。

#24. 原子层沉积(ALD) 应用档案 - Veeco

按照严格标准生产薄膜的能力使原子层沉积(ALD) 成为将高质量薄膜沉积到具有挑战性基质（例如异质结构、纳米管和有机半导体）的绝佳解决方案。

#25. 中心簡介

另一個團隊由清大半導體權威林本堅院士(前台積電研發副總)，指導如何建立無機與有機材料驗證台。藉UV輔助原子層沈積(UV-ALD)技術，整合開發新型有機分子前驅物，應用於小於 ...

#26. 抱樸科技化合物半導體商設備建置完成| 熱門亮點| 商情

抱樸科技是一家聚焦在原子層沉積(ALD)技術設備研發，專利發明以及應用服務 ... 將其應用在化合物半導體、電子元件、微發光二極體(Micro LED)等產品的 ...

#27. 我們的製程

我們領先市場的完備產品組合，包括薄膜沉積、電漿蝕刻、光阻去除和晶圓清洗等，是相輔相成的製程步驟，會被應用於整個半導體製造過程中。為了支援先進製程的監測和控制 ...

#28. 肾上腺脑白质退化症

ALD 製程會直接在晶片表面逐漸形成物質，一次形成一小部份單層，以便生產出最薄、最 ... 博士說明了ALD如何運作,並探討將ALD應用到高容量晶片製作所面臨的具體挑戰。

#29. Skytech 天虹科技

天虹科技SkyTech Nexda All New PVD System：華人自製的半導體機台，全新磁場設計及旋轉機構、完整的軟硬體偵測系統、ICP pre-clean技術，具有高彈性、高精準、高產出 ...

#30. PRODUCTS/ 产品资讯/原子层沉积系统FlexAL ALD - 科榮股份 ...

原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程，微机电系统和其他奈米技术应用提供了许多好处。 原子层沉积的优点

#31. 在高深寬比結構下的量化ALD技術 - Academia.edu

且由於深寬比隨國際半導體科技藍圖進展持續增加[2,3]，它是合理的考量，ALD 可能不是於極窄深間隙應用之優先考量。我們已展示於窄間隙定量ALD 製程和薄膜成長之方法。 原子 ...

#32. 40年ALD积淀助力超越摩尔，思锐智能完成第一阶段发展布局

业界主流的薄膜沉积工艺主要有原子层沉积(ALD)、物理式真空镀膜(PVD)和化学式真空 ... 事实上，随着新材料、新制程、新工艺在新兴半导体制造行业的应用与发展，ALD技术 ...

#33. 天虹科技ALD設備獲晶電採用為台灣第一家被量產的 ... - 工商時報

天虹科技成功開發「量產型」ALD薄膜製程設備，讓台灣半導體關鍵製程設備 ... 簡稱晶電）的驗證及採用，成為晶電推動LED科技商業化應用的重要夥伴。

#34. 北美智權報第105期：原子層蝕刻技術從實驗室走入晶圓廠

原子層沉積（atomic layer deposition, ALD）在半導體產業中已經在生產線 ... 雖然已經應用在半導體產業中將近40年，連續式的沉積和蝕刻技術還是因為 ...

#35. Picosun ALD 原子層沉積系統 - 元鋒精密股份有限公司

PICOSUN™ R-200高級ALD系統適用於IC元件、MEMS元件、顯示器、LED、雷射及鏡片、光學器件和醫療植入器械等半導體應用物件的研發。 VIEW MORE R-200 高級型. P-300F 群集式.

#36. SRII重磅两款ALD新品满足泛半导体应用多功能性和灵活性需求

原子层沉积（ALD）工艺被认为是逻辑和存储半导体器件微缩化的重要推动力。过去20年，ALD工艺及设备已经广泛应用于逻辑和存储器件的大批量制造，不断 ...

#37. 原子层沉积技术及其在半导体中的应用 - Airiti Library華藝線上 ...

... 介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势，着重列举ALD在半导体互连技术、高k电介质等方面的应用。同时指出了目前ALD工艺中存在的主要问题。

#38. 原子层沉积（ALD）技术和应用简介- 核心零部件

国内亦有科研人员采用低温远程PE-ALD方法制备了ZrO 2/Zr 纳米薄膜，实现了柔性有机发光二极管的有效封装。此外，ALD还应用在晶体管以及其他半导体器件上， ...

#39. ALD技术在未来半导体制造技术中的应用 - 知乎专栏

由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用 ...

#40. 原子層沉積製程技術 前驅物測試與設備開發

變化，致使採用現行工藝的半導體器件不能正常工 ... 子層沉積（atomic layer deposition, ALD）因具有 ... 製程技術應用於其他如光電、能源等領域的研究更.

#41. 原子層沉積系統(Atomic Layer Deposition, ALD) - 電漿與薄膜 ...

原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）係藉由表面獨特自我侷限反應來成長高階梯覆蓋與大面積均勻性之薄膜。可用於奈米級或原子級薄膜沉積，調控 ...

#42. ALD原子层沉积设备广泛应用场景以及技术介绍-扩散炉

山东力冠微电子装备有限公司，是集开发、生产、销售为一体的高端装备制造商，产品广泛应用于新材料生长过程、HVPE晶体生长过程、半导体工艺过程等领域 ...

#43. 半导体应用-FITOK ALD 系列原子层沉积隔膜阀_新闻中心

原子层沉积(Atomic Layer Deposition) 是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。随着芯片节点尺寸的不断缩小，传统沉积技术已 ...

#44. PRODUCTS/ 產品資訊/原子層沉積系統FlexAL ALD

原子層沉積的兩個限定性特徵--自約束的原子逐層生長和高度保形鍍膜--給半導體工程，微機電系統和其他奈米技術應用提供了許多好處。 原子層沉積的優點

#45. 原子层沉积（ALD）设备正打入所有超越摩尔定律应用领域1

这份ALD 分析全面介绍了MtM 器件生产的工业设备采用现状，并特别关注工艺要求和. 趋势。Yole 的半导体制造团队还提供了相关ALD 设备基准，包括技术、反应 ...

#46. 原子层沉积技术在微纳器件中的应用研究进展

综述了ALD 技术发展历史和技术原理,介绍了ALD 技. 术在微纳器件中的应用进展,涉及半导体微纳集成电路、微纳光学器件、微纳米生物医药等高新技术领.

#47. 40年ALD積澱助力超越摩爾，思銳智能完成第一階段發展布局

業界主流的薄膜沉積工藝主要有原子層沉積(ALD)、物理式真空鍍膜(PVD)和化學式 ... 事實上，隨著新材料、新製程、新工藝在新興半導體製造行業的應用與 ...

#48. ALD技术原理、技术特征及其在半导体先进制程的应用

原子层沉积（AtomicLayer deposition，ALD）最初称为原子层外延，也成为原子层化学气相沉积（ALCVD），是化学气相沉积（CVD）的一种特殊形式。

#49. 國研院發表12吋叢集式ALD - 產業．科技

國研院儀科中心與國內半導體設備供應商天虹科技，以「原子層沉積 ... 至2020年已客製開發20多台各式ALD設備，其應用領域涵蓋太陽能光電、半導體、觸媒 ...

#50. 【Ald】熱門徵才公司 - 104人力銀行

關鍵字（Ald）企業【美律實業股份有限公司】【台灣應用材料股份有限公司_Applied Materials ... 新竹縣竹北市，半導體機台研發製造、相關零件及設備維修服務.

#51. 抱樸科技半導體產業鏈指標商 - PressReader

2021-10-16 - 譚漢珠／撰稿圖／抱樸科技提供（ALD）速率提高至3倍以上的 ... 其最大的特色，是將方形腔體半導體設備，應用在化合物半導體表面改質、 ...

#52. ALD在超越摩尔应用中起飞--行业新闻频道 - 化合物半导体

ALD 在超越摩尔应用中起飞. 2021/12/9 19:27:20 材料来源：化合物半导体. Yole Développement 声称这一市场在2026年的复合年增长率将为12%，达到6.8 亿美元.

#53. 真空技術與應用發表會摘要(TVS-2019)

原晶半導體設備/ 元鋒精密是由林宜鋒(Bob Lin)總經理創辦成立，總代理經銷芬蘭Picosun ALD、英國Korvus Modular Deposition System 以及美國zeroK Ion Beams System 等產品 ...

#54. 【美股研究報告】Applied Materials 應用材料，半導體設備供應 ...

CMoney · 研發、製造和銷售用於製造半導體晶片的各種技術設備，包括沉積( ALD、PVD、CVD等)、蝕刻、清洗、化學機械研磨、離子植入等，為營收占比最高的部門 ...

#55. ald 半導體

原子層沉積(Atomic Layer Deposition；ALD)應用於半導體薄膜蒸鍍製程，可較既有化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition；CVD)減少薄膜厚度，重要性漸揚。儘管A.

#56. 原子層沉積(ALD)技術和應用簡介 - 人人焦點

原子層沉積（Atomic layer deposition，簡稱ALD）是一種基於氣態前驅體在沉積表面 ... 此外，ALD還應用在電晶體以及其他半導體器件上，如光電結構等。

#57. 台積電3奈米製程加速，拚明年量產！應用材料 - 數位時代

應用 材料高級副總裁暨半導體產品事業部總經理Prabu Raja點出：「一個智慧型手機的晶片有數百億條銅線互連，佈線已消耗晶片三分之一的功率；而在真空中集成 ...

#58. ALD技术在未来半导体制造技术中的应用 - 360doc个人图书馆

由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用 ...

#59. (19) 中華民國智慧財產局(12)發明說明書公告本(11)證書號數

此,存在有對於一種可防止敏感基板損害的半導體薄膜沉積方法之需. 求。在某些實施例中,此方法防止氧化 ... CVD製程相比,ALD製程使用表面介導沉積反應以使薄膜逐層沉積。

#60. 原子層沉積成長金屬氧化物半導體薄膜及其在氮化鎵發光二極體 ...

標題: 原子層沉積成長金屬氧化物半導體薄膜及其在氮化鎵 發光二極體透明導電層之應用 ... 原子層沉積;Transparency conductive layer;GaN-based LED;ALD.

#61. Olympia™ALD应用材料 - 必威app

19年7月3日 betwayapp应用材料获得英特尔的首选… 半导体博客. 19年12月6 ...

#62. 突破製程極限半導體技術下一步往哪走？ - 電子工程專輯

有鑑於應用的多元化與複雜程度的提高，微電子技術演進不再僅限於 ... 沉積製程是半導體業界發展了數十年的成熟步驟，ALD能在晶圓表面形成僅單原子厚度 ...

#63. 原子层沉积_百度百科

1 简介; 2 原理; 3 技术应用; 4 专利. 5 分析; 6 研究; 7 应用; ▫ 半导体领域 ... 单原子层沉积（atomic layer deposition，ALD），又称原子层沉积或原子层 ...

#64. 推動台灣產業儀器設備自主化契機，儀科中心為國內半導體業 ...

同時，儀科中心在原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD) 設備也有相關 ... 技醫材產品原型開發時程，協助台灣新創事業創造醫材殺手級應用的目標。

#65. 40年ALD积淀助力超越摩尔，思锐智能完成第一阶段发展布局

沉积、光刻、刻蚀以及等离子注入是半导体和超越摩尔领域制造工艺的4大 ... 化，包括半导体的新材料、MEMS新工艺，以及ALD人工智能、互联网新应用等 ...

#66. 电极应用氮化钛薄膜原子层沉积中的替代表面反应路线,ACS ...

通过原子层沉积（ALD）生长的氮化钛（TiN）薄膜作为半导体器件应用中的电极材料引起了相当大的关注，例如逻辑晶体管和动态随机存取存储器（DRAM）。

#67. 日本艾迪科拟25亿日元在台湾建设ALD前驱体新工厂 - 艾邦 ...

ADEKA的材料用于应用EUV 曝光工艺的最先进逻辑半导体的布线工艺（ALD 沉积），其ALD 材料已被评估为小型化不可或缺的材料。ADEKA拥有众多高附加值 ...

#68. 2021年CVD、ALD、PVD設備市場規模占比 - 拓墣產業研究院

2021年CVD、ALD、PVD設備市場規模占比 ... 本篇報告乃聚焦中國大基金布局、中國半導體沉積設備市場、供應商動態，並分析全球 ... CVD設備主流應用領域.

#69. 儀科中心攜天虹科技高階半導體設備自製邁大步 - 中央社

儀科中心2018年起與國內半導體設備廠天虹科技合作，整合雙方技術共同開發12吋量產型叢集式ALD設備，於2019年完成設備開發及12吋氧化鋁薄膜製程驗證，應用 ...

#70. 奇裕承先啟後，從光通訊產業跨向3D感測，代理原子沉積薄膜 ...

... 感測議題發燒，奇裕企業也注意到了3D感測不只在手機的應用，未來更有應用 ... Picosun 的ALD目前在化合物半導體的LED及功率/高頻元件廣泛獲得業界 ...

#71. ' - ' - 技鼎股份有限公司

牛津儀器的FlexAL產品家族提供了一種新的廣泛的靈活性和能力，應用於奈米結構和器件工程，通過提供遙感等離子體原子層沉積（ALD）技術和熱ALD技術。

#72. Nanoelectronic and Nanophotonic Materials Lab

使用原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD)技術成功地製備具有異質結構之矽奈米 ... 在室溫下矽發光二極體的發光頻譜，發光波長位於1140 nm，十分接近矽半導體的能 ...

#73. 原子層沉積技術在金屬粉體領域的應用

20世紀90年代中期，矽半導體的發展使得原子沉積的優勢真正得以體現，掀起了人們對ALD研究的熱潮。經過將近30年的發展，ALD技術在催化、半導體、光學等眾多領域都發揮著十分 ...

#74. 2020-半導體&綠能元件鍍膜技術與Macleod 薄膜設計研討會

組與業界專家說明最新發展高能PVD 真空鍍膜技術應用、單層原子沉積(ALD)在半導體製程技術開. 發、全固態電致變色鍍膜技術發展與Macleod 光學薄膜設計等，可以分別應用 ...

#75. 原子層沉積技術研討會「Novel Applications of Atomic Layer ...

這次我們除邀請到研究ALD技術超過20年的專家針對技術面、產業面及材料開發趨勢進行專題演講外，更邀請到半導體、二維材料、功率元件、阻水封裝等領域的專家學者與會 ...

#76. 3d結構半導體應用之利用圖案化自組裝單層的選擇性原子層沉積 ...

藉由把化學反應分成兩個重複循環的個別半反應，可控制ALD製程。ALD製程形成材料層820的厚度取決於反應循環次數。第一反應提供待吸著於基板的分子層第一原子層，第二反應 ...

#77. ALD镀膜- 原子层沉积

ALD 曾经并仍主要被用于制备诸如MOSFET中高k栅极绝缘层等的半导体电子领域。同时，其它领域对ALD技术的应用需求也在不断增长：比如制造MEMS、阻挡层、在粒子上或毛细管 ...

#78. 應用於原子層沉積之臨場量測技術- 月旦知識庫

原子層沉積技術是現今半導體IC製程中非常受到重視與仰賴之奈米超薄膜（ultra-thin film）沉積技術，而隨著ALD技術的發展與需求，前驅物材料與製程上的各種 ...

#79. 因應半導體設備市場重心移向亞洲SSSC以ALD閥門開發市場

SSSC以生產隔膜閥、波紋管閥、塑膠閥等半導體流體應用產品為主，此次推出採用ALD技術的氣動閥是供半導體設備所用，其產品優勢在於使用次數超過2,500萬 ...

#80. 前瞻研究夢工廠 - 科技大觀園

本展呈現儀科中心數項尖端科技研發成果，分別是最先進的半導體薄膜技術「ALD原子層沉積機台」、為台灣航太史寫下新一頁的「自製航太鏡片」、拓展光學應用的「高 ...

#81. ALD技术半导体工艺领域发展、应用及德国DIAS红外测温仪

由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用 ...

#82. pgaTOF质谱仪助力原子层沉积ALD过程的监测、表征和优化

原子层沉积（ALD）正迅速成为各种薄膜材料的标准制造技术，也是当今半导体领域的 ... 本应用说明介绍了如何将一种新型飞行时间质谱仪，TOFWERK pgaTOF，集成在原子层 ...

#83. 國立中山大學物理學系研究所碩士論文利用ALD成長的m-面氧化 ...

關鍵字：ALD、m-面氧化鋅、磁阻、霍爾效應、p-型半導體 ... 氧化鋅還具有多種應用，若是摻雜鋁原子可以提高導電率22，取代因銦原料較. 稀少而較貴的ITO，成為的便宜的 ...

#84. ALD设备介绍 - 清华大学微纳电子技术支撑平台

◇ALD是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。 ... ALD的温度窗口. 《原子层沉积技术及其在半导体中的应用》 ...

#85. 交通大學研究團隊以ALD所提供的鈍化保護，提升Micro LED ...

近年來由於奈米元件的製程需求，半導體元件的尺度逐漸縮小，蝕刻造成的側壁缺陷逐漸無法忽視，PECVD不再能提供足夠的階梯覆蓋率，此時ALD沉積技術的 ...

#86. 原子层沉积技术性能优异推动全球ALD设备市场快速增长 - 搜狐

随着技术不断升级，高性能微电子材料应用比例不断增长，集成电路的集成度不断提高，半导体器件体积、尺寸不断缩小，使得市场对薄膜沉积技术的成膜 ...

#87. 台積磁吸效應發酵設備商默克南科再砸一億

半導體 材料設備大廠默克今（8）日成立研發中心，相關供應鏈台廠紛紛來 ... 應用研發中心設有兩個獨立的實驗室，一個致力於前段原子層沉積（ALD）和 ...

#88. 半導體製造總覽| Thermo Fisher Scientific - TW

金屬膜形成的方法有：使用LPCVD／濺射／ALD（鎢，晶種和Ta 和TaN 的阻障層）或電化學沉積（鍍銅）。 阻障層、接觸層或晶種薄膜非常薄，需具備高純度和控管良好的化學 ...

#89. 應材推出因應3D世代的高效能原子層沉積技術 - 壹讀

應用 材料公司近日推出AppliedOlympia原子層沉積(ALD)製程系統， ... 應用材料公司是全球前五百大公司之一，專為半導體、平面顯示、太陽光電產業提供 ...

#90. 浅谈ALD在半导体先进制程的应用-电子发烧友网

说明：若有考虑不周，欢迎留言指正。 原子层沉积在半导体先进制程的应用随着集成电路工艺技术的不断提高，晶体管的特征尺寸及刻蚀沟槽不断减小，沟槽及其侧壁的镀膜 ...

#91. 使用XPS和SIMS測量ALD薄膜中的氫，碳，氧和鐵污染 - EAG ...

應用 筆記. ALD對半導體的污染. ALD可以生產高，H，C，O和金屬的薄膜。 在大多數情況下，不希望有高含量的H，C，O和金屬半導體 影片。 改進的等離子體源減少污染 在基於 ...

#92. 超越摩尔技术，ALD能量有多大？ - 中国电子信息产业发展研究院

原子层沉积技术镀膜（ALD）技术是一种工业镀膜关键技术，这种技术在集成 ... 报》记者介绍，ALD技术是一种在集成电路、超越摩尔应用、一些泛半导体和 ...

#93. ALD对照CVD淀积技术的优势 - CSDN博客

由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此 ...

#94. 默克以創新材料驅動先進半導體微型化發展| 新聞中心 - Merck ...

實現下世代半導體晶片與應用，將仰賴更多、更新的材料科技 ... process)，如原子層沉積技術(atomic layer deposition, ALD)和定向自組裝技術(DSA)。

#95. 一篇文章带你入门原子层沉积(ALD) 半导体圈资源对接 - 雪球

半导体 圈资源对接，加微信：416000888. 作为一种高度精确且可控的薄膜制造工艺，原子层沉积(ALD)正被用到越来越多的应用中。

#96. ALD原子层沉积技术发展及应用

... 层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术, 因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好, 还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分, 仍然备受关注并被广泛应用于半导体、 ...

#97. 2015/07/27-蘇純儀

半導體 產業在摩爾定律(Moore's Law)預測下持續演進，雖不時傳出製程已面臨極限的 ... 目前業界已可見一些ALD製程之應用，ALD市場的相關業者包括應 ...